Китай відстає від ASML на 15 років у ключовій технології виробництва чипів
Китаю може знадобитися близько 15 років, щоб самостійно створити обладнання для EUV-літографії, необхідне для виробництва найсучасніших мікросхем. Таку оцінку дав керівник напівпровідникового підрозділу німецької Zeiss Френк Ромунд.
За його словами, термін у 15 років є "розумним припущенням", хоча точно оцінити реальний прогрес китайської напівпровідникової промисловості складно. EUV, або літографія в екстремальному ультрафіолеті, використовується для виготовлення найпередовіших чипів, зокрема процесорів для систем штучного інтелекту.
Зараз єдиним у світі виробником серійного обладнання EUV є нідерландська ASML. Zeiss постачає для цих машин складні оптичні системи. Саме недоступність такого обладнання залишається одним із головних технологічних обмежень для розвитку передового виробництва чипів у Китаї.
США та їхні союзники протягом останніх років обмежують постачання Пекіну найсучаснішого обладнання для напівпровідникової галузі. ASML не може продавати Китаю свої EUV-системи, а для експорту частини більш сучасних машин попереднього покоління DUV також необхідні спеціальні ліцензії.
Оцінка Zeiss близька до прогнозу аналітиків UBS. Цього тижня вони припустили, що Китаю знадобиться щонайменше десятиліття, щоб створити власну технологію EUV, здатну конкурувати з обладнанням ASML.
Водночас китайські компанії вже досягли прогресу у виробництві літографічного обладнання попереднього покоління. У липні повідомлялося, що компанія із Шанхая розпочала виробництво власних систем занурювальної DUV-літографії. Ромунд зазначив, що Китай працює над такими технологіями десятиліттями, тому сам факт появи нового обладнання не став несподіванкою. За його словами, тепер головним питанням буде його реальна продуктивність і технологічний рівень.
При цьому глава напівпровідникового бізнесу Zeiss виступив проти подальшого розширення експортних обмежень на старіші DUV-системи. Він вважає, що такі заходи можуть мати зворотний ефект, оскільки стимулюють Китай швидше вкладати кошти у власні технології та скорочувати залежність від західних постачальників.
Китай залишається одним із найбільших ринків ASML для обладнання DUV. Пекін паралельно спрямовує значні ресурси на розвиток власного напівпровідникового виробництва, прагнучи зменшити залежність від іноземних технологій на тлі американських обмежень.
Zeiss оцінює, що компоненти компанії використовуються у виробництві приблизно 80% мікросхем у світі. На тлі стрімкого зростання попиту на обладнання для виробництва AI-чипів компанія розширює потужності у Німеччині та будує новий завод.
