Китай отстаёт от ASML на 15 лет в ключевой технологии производства чипов
Китаю может понадобиться около 15 лет, чтобы самостоятельно создать оборудование для EUV-литографии, необходимое для производства самых современных микросхем. Такую оценку дал руководитель полупроводникового подразделения немецкой Zeiss Фрэнк Ромунд.
По его словам, срок в 15 лет является "разумным предположением", хотя точно оценить реальный прогресс китайской полупроводниковой промышленности сложно. EUV, или литография в экстремальном ультрафиолете, используется для изготовления самых передовых чипов, в частности процессоров для систем искусственного интеллекта.
Сейчас единственным в мире производителем серийного оборудования EUV является нидерландская ASML. Zeiss поставляет для этих машин сложные оптические системы. Именно недоступность такого оборудования остаётся одним из главных технологических ограничений для развития передового производства чипов в Китае.
США и их союзники в течение последних лет ограничивают поставки Пекину самого современного оборудования для полупроводниковой отрасли. ASML не может продавать Китаю свои EUV-системы, а для экспорта части более современных машин предыдущего поколения DUV также необходимы специальные лицензии.
Оценка Zeiss близка к прогнозу аналитиков UBS. На этой неделе они предположили, что Китаю понадобится как минимум десятилетие, чтобы создать собственную технологию EUV, способную конкурировать с оборудованием ASML.
В то же время китайские компании уже достигли прогресса в производстве литографического оборудования предыдущего поколения. В июле сообщалось, что компания из Шанхая начала производство собственных систем иммерсионной DUV-литографии. Ромунд отметил, что Китай работает над такими технологиями десятилетиями, поэтому сам факт появления нового оборудования не стал неожиданностью. По его словам, теперь главным вопросом будет его реальная производительность и технологический уровень.
При этом глава полупроводникового бизнеса Zeiss выступил против дальнейшего расширения экспортных ограничений на более старые DUV-системы. Он считает, что такие меры могут иметь обратный эффект, поскольку стимулируют Китай быстрее вкладывать средства в собственные технологии и сокращать зависимость от западных поставщиков.
Китай остаётся одним из крупнейших рынков ASML для оборудования DUV. Пекин параллельно направляет значительные ресурсы на развитие собственного полупроводникового производства, стремясь уменьшить зависимость от иностранных технологий на фоне американских ограничений.
Zeiss оценивает, что компоненты компании используются в производстве примерно 80% микросхем в мире. На фоне стремительного роста спроса на оборудование для производства AI-чипов компания расширяет мощности в Германии и строит новый завод.
